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COATING INDUSTRIAL OF GLOBAL LEADER
01.장치구성 : 반도체 고주파 고압 전원, 고압 트랜스, 전극
02.전원입력 : AC220V±10% 50/60Hz 1Φ, 3Φ
03.압축공기 토출압 : 4.5~5.5kg/cm²
04.압축공기 유량 : 50~100LPM
05.처리폭 : 5~10mmΦ
06.토출길이 : 20mm
※ 압축공기가 표준 사양입니다만, 질소가스 등 다른 가스의 사용도 가능합니다.
01.Torch 플라즈마는 전하를 가지지 않기 때문에 금속 표면 처리시 아크 발생 없이 표면의 클리닝 및 개질이 가능합니다.
02.또한 각종 플라스틱 표면의 클리닝 및 개질에도 적합합니다.
03.각종 재료 표면의 물에 젖는 성질을 큰폭으로 개선합니다.
04.Masking 등의 예비 처리를 하지 않고 처리폭의 좁은 표면 개질이 가능합니다.
05.입체적인 제품의 표면 개질이 가능합니다.
06.금속, 수지필름 인쇄시 잉크의 밀착성이 향상됩니다.
07.금속, 수지필름, 부직포의 접착성이 향상됩니다.
08.대기 중에서 처리를 하기 때문에 인라인 System과의 결합이 용이합니다.